技术编号:10565744
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。目前多元氧化物薄膜制备技术主要有如下三种金属有机溶液沉积(Trifluoroacetic acid-metal organic deposit1n,TFA_MOD)、脉冲激光沉积技术(Pulsed laser deposit1n,PLD)以及金属有机化学气相沉积技术(Metal-organicchemical vapor deposit1n,M0CVD)。TFA-MOD是一种化学溶液沉积方法,其制备方法不需真空条件,工艺工程简单,成本相对低廉。薄膜的沉积速...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。