消除红外焦平面阵列探测器金属层蚀刻后金属残留的方法技术资料下载

技术编号:10571525

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MEMS(微机电系统,Micro-Electro Mechanical System)是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术。MEMS技术的操作范围在微米范围内。MEMS技术是以半导体制造技术为基础发展起来的。MEMS技术采用了半导体技术中的光刻、腐蚀、薄膜等一系列的现有技术和材料。在MEMS红外焦平面阵列探测器(红外热成像传感器)制造工艺中,金属层的蚀刻,由于只需蚀刻掉Al,但要保留Ti,故采用湿法蚀刻的方法。湿法蚀刻后,Ti的表面总是会有Al...
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