技术编号：10573870
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在制造 CCD/CM0S图像传感器的工序中，利用溶剂、碱性溶液等药液进行浸渍处理， 为了防止这样的处理引起元件劣化或损伤，针对该处理，在元件表面设置具有耐性的保护 膜。对于这样的保护膜，要求具有透明性、耐热性和耐光性高、经过长时间而不引起着色等 变质、耐溶剂性、耐碱性优异等性能（专利文献1)。进而，近年来，随着CCD/CM0S图像传感器 的高精细化，需要提高传感器灵敏度，因此，为了从微透镜高效率地向受光部聚光，在将保 护膜形成于滤色器上等的情况下，还要求...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。