技术编号:10577626
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 TEOS(三-乙氧基-有机-硅酸盐)是一种含硅化合物,其在室温下为液体。例如,代替硅烷,TEOS在许多应用中被使用以在衬底上沉积电介质膜。因为由TEOS化学气相沉积工艺沉积的二氧化娃(或“TE0S氧化物”)膜具有良好的共形性,所以TEOS被用于其中需要共形性的应用中。TEOS氧化物通常由等离子体增强沉积化学气相沉积(PECVD)工艺进行沉积。基于TEOS的PECVD工艺通常涉及将衬底暴露于包括TEOS和如氧或臭氧之类的氧化剂的工艺气体。在半导体衬底处理的...
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