氮化镓纳米锥和氮化镓纳米柱混合阵列的制作方法技术资料下载

技术编号:10595786

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以GaN及InGaN与AlGaN合金材料为主的II1-V族氮化物材料是近几年来国际上倍受重视的新型半导体材料。GaN基材料是直接带隙宽禁带半导体材料,具有0.7-6.2eV之间连续可变的直接带隙,优异的物理、化学稳定性,高饱和电子漂移速度,高击穿场强和高热导率等优越性能。GaN基LED具有节能、环保、冷光源、显色指数高、响应速度快、体积小和工作寿命长等突出优点,其作为新一代照明革命的绿色固体光源显示出巨大的应用潜力。GaN材料作为重要半导体材料的优良特性使...
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