技术编号:10621902
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种PECVD系统,包括工艺镀膜腔、传输腔、进片/出片腔,所述PECVD系统还包括氮气箱,所述氮气箱中设置有硅片装载/卸载平台,所述硅片装载/卸载平台对应于所述进片/出片腔并与其相连,所述PECVD系统用于异质结硅基太阳能电池的制备,该系统能使得硅片在PECVD制程前后都处于氮气的保护之中,防止环境中氧气、水汽及杂质污染对晶硅以及非晶硅表面的污染,同时,本发明可以使得硅片的载板维持高温传输,减少升温和降温带来的时间浪费。专利说明一种PECVD系...
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