技术编号：10624978
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着半导体技术趋向于40纳米模式以下，可制造性设计(Design for Manufacture, DFM)自动填充虚拟图案起到越来越重要的作用。它可以帮助改善图案密度分布、统一器件性能、增强光刻/刻蚀工艺窗口等。有时，不仅需要提供内部标准虚拟图案实用程序(du_y utility)，还需要为用户提供基于用户需求的定制化专用虚拟图案实用程序。对于这样的需求，现有的方法是重新创建虚拟图案脚本，并且因为不同层设置还需针对用户专用虚拟图案实用程序做质量评估(Qu...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。