技术编号:10635359
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。随着器件集成度的提高,单一器件的尺寸越来越小,在器件加工过程中,材料表面的清洁程度在决定器件的工作性能、使用寿命和可靠性等方面所起的作用,甚至超过体材料本身。化学清洗的质量不高,产品的性能就要下降。GaAs是二元化合物,表面具有较高的活性,其表面吸附的污染物是各种各样的。最常见的是灰尘、有机物、氧化物、碳氢化合物和各种气体等。目前化合物半导体GaAs清洗工艺中广泛使用的是硫酸清洗工艺,但是在硫酸清洗中存在许多不尽如人意的地方,在不同的清洗条件下会产生相当不...
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