技术编号：10645783
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。金属有机化学气相沉淀系统(以下简称MOCVD系统)是用于生产半导体光电器件例如LED器件的核心设备。外延反应过程中，反应气体从气源经由反应气体输送装置被引入反应腔，使放置在反应腔内的外延片上能够外延生长形成晶格结构薄膜。为了有效控制上述外延生长的高温化学反应过程，通常需要反应气体在外延片的表面上形成均匀浓度、均匀速度、和均匀温度的边界层，以满足外延生长的薄膜在晶格结构和性能上的各项要求，从而提高光电器件的生长质量和良品率，因此MOCVD系统中气体输送装置的...
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