技术编号:10645784
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔并在沉积基体上化学吸附并反应并形成沉积膜的一种方法,作为一种新兴的薄膜制备技术,在微电子领域、光电领域、太阳能领域以及纳米材料领域等有着非常广泛的应用。一般原子层沉积反应,需要对反应腔体进行加热,且通常的原子层沉积设备,反应腔处于一个更大腔体的内部。外部腔体中安装加热电阻、反射板等,通过辐射的方式对反应腔体进行加热。通常情况下,反应腔体的气压低于外部腔体。此外,基底样品须通过外腔放入内腔。因此,反应腔体的门盖...
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