技术编号:10652027
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了,用X-射线衍射图谱和二氧化硅含量选择蒙脱石,X-射线衍射图谱选择第1个特征谱线在1.2nm或1.5nm处,第2个特征谱线在0.45nm处;二氧化硅在55%?65%之间。按此技术参数选择蒙脱石,制备降低农残的药物效果好。专利说明本发明涉及农业,具体涉及,属生物医药。技术背景农作物的病害如防治不及时造成农作物品质降低,产量下降,严重者甚至绝收,给农业生产带来巨大的损失。农药是农作物种植过程中重要的生产资料之一。在增加产量、减少病害的发生,农药都起...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。