一种制备降低农残的药物原料选择方法技术资料下载

技术编号:10652027

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本发明提供了,用X-射线衍射图谱和二氧化硅含量选择蒙脱石,X-射线衍射图谱选择第1个特征谱线在1.2nm或1.5nm处,第2个特征谱线在0.45nm处;二氧化硅在55%?65%之间。按此技术参数选择蒙脱石,制备降低农残的药物效果好。专利说明本发明涉及农业,具体涉及,属生物医药。技术背景农作物的病害如防治不及时造成农作物品质降低,产量下降,严重者甚至绝收,给农业生产带来巨大的损失。农药是农作物种植过程中重要的生产资料之一。在增加产量、减少病害的发生,农药都起...
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