技术编号：10652282
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。三氟化氮是一种工业特种气体，其主要用作推进剂(火箭)、氟化剂、电子气、等离子蚀刻及用于掺杂、激光、光导纤维。尤其是在目前发展较快的微电子领域，它可以作为一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氧化硅蚀刻。采用三氟化氮比四氟化碳和氧气的混合气体具有更高的蚀刻效率和选择性，而且对表面无污染，在被蚀刻物表面不留任何残留物质， 同时也是非常良好的清洗剂，随着近年来电子及光伏产业的飞速发展，对于三氟化氮气体的需求增长也承迅猛之势。但是三氟化氮是一种毒性物质，但是它能强烈刺激...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。