基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器的制造方法技术资料下载

技术编号:10659486

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分布反馈激光器(DFB)是在激光器内部加入布拉格光栅实现光的反馈,由于光栅的选择作用,输出的光谱线宽远窄于一般激光器的光谱,且能够稳定单模振荡。D F B激光器的边模抑制比及功率特性与光栅的耦合系数有密切关系,而光栅的耦合系数由光栅的形状、填充因子、深度等因素决定。因此,光栅的特性直接影响到DFB激光器的性能。故光栅的制备是至关重要的工艺技术,一般光栅的制备包括掩膜制备和光栅刻蚀。制作掩膜可通过全息曝光、电子束直接写入或者纳米压印的方法来实现。纳米压印具有...
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