技术编号：10663420
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于处理光辐射(108)的装置(100)，装置(100)包括限定多通过腔体(106)的至少两个光学反射元件(102，104)，使得所述光学元件(102，104)中的至少一个在至少两个不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少两次，其特征在于，所述装置包括至少一个被称为校正元件的元件，所述校正元件具有至少一个被称为校正位置的位置，所述校正位置实现所述光学辐射的反射或透射，并且其表面是不规则的，使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位...
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