技术编号：10680513
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。多弧离子镀是一种设有多个可同时蒸发的阴极弧蒸发源的物理气相沉积技术，具有沉积速度快、膜层组织致密、附着力强、均匀性好等显著特点。该技术适用于各种硬质反应膜的制备，并在氮化物硬质反应膜的制备方面获得成功应用。对于单层、双层和梯度成分变化的以钛为基的氮化物硬质反应膜而言，一般存在以下缺点1、膜层组织中容易出现明显的具有成分差别的界面，导致膜层成分的非连续变化;2、容易出现膜层硬度与膜层附着力之间的矛盾，即硬度与附着力难以同时满足;3、容易在膜层中产生较大的内应...
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