磁性材料溅射靶及其制造方法技术资料下载

技术编号:10680518

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瓣射装置有各种方式,对于上述磁记录膜的成膜而言,从生产率高的观点考虑,广 泛使用具备DC电源的磁控瓣射装置。瓣射法使用的原理如下将作为正极的衬底与作为负 极的祀对置,在惰性气体气氛中,在该衬底与祀之间施加高电压W产生电场。 此时,惰性气体电离,形成包含电子和阳离子的等离子体,该等离子体中的阳离子 撞击祀(负极)的表面时将构成祀的原子击出,该飞出的原子附着到对置的衬底表面上而形 成膜。通过运样的一系列动作,构成祀的材料在衬底上形成膜。 另一方面,从关于磁性...
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