技术编号:10680521
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了,采用双阴极等离子溅射沉积方法制备生物活性纳米晶β?Ta涂层,具体的工艺参数如下靶材电压700~1000 V,工件电压250~350 V,靶材与工件间距10~20 mm,工作气压25~40 Pa,沉积温度600~900 ℃,沉积时间 1.0~2.0 h. 溅射靶材的种类纯度为>99.9%的商用纯Ta;工件材料的种类医用钛合金植入材料。本发明制备得到的纳米晶β?Ta涂层具有高硬度、高韧性以及优异的腐蚀抗力和磷灰石诱导能力,能明显提高医用钛合...
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