技术编号：10680525
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。真空镀膜机主要指一类在较高真空度下对工件进行镀膜的设备，其中，镀膜的技术具有很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的对象被称为工件(或基片)，需要镀在工件上的材料被称为靶材，如硅靶、铌靶、铝靶、钛靶等。工件与靶材同在真空腔中。在真空条件下，通入一定气压的氩气，氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜。目前的...
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