互连结构及其形成方法技术资料下载

技术编号:10689028

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半导体器件通常包括具有诸如晶体管和电容器的有源器件的衬底。最初这些有源 器件相互隔离,随后在这些有源器件上方形成互连结构,以形成功能电路。通常,这些互连 结构包括形成在多个堆叠的介电层中的导电部件(例如,金属线和通孔),其中上层中的互 连结构向下延伸,以电连接至下层中的互连结构。为了降低介电层中的导电部件的电容耦 合,通常将包括超低k介电材料的低k介电材料用于互连层。发明内容 根据本发明的一个方面,提供了一种半导体器件,包括第一导电部件,位于介电 层中;...
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