技术编号：10694250
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在光刻的情况下，基板或晶圆(如，半导体晶圆，其即将被曝光)通常布置在平坦的支撑台(例如，平坦的工作台)上并且通过使用真空吸附来固定。多个吸附装置基本均匀地横跨平坦的工作台表面分布以便基板或晶圆的整个表面接触支撑台或工作台的整个正对表面。已经在有源表面或区域(例如，背面上)的范围设置有传感结构的基板或还未经预处理的基板可能会在通过吸附横跨整个支撑表面固定时被所述有源区域中的杂质颗粒损伤或污染;类似地，涂覆在基板或晶圆的背面上的漆也可能会损伤或污染。为了克服这...
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