技术编号：10698213
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。图形化衬底是在一平面衬底上利用光罩、刻蚀等工艺，形成具有图形化表面的衬底。图形化衬底一方面能够有效降低外延结构层的位错密度，提高外延材料的晶体质量和均匀性，进而能提高发光二极管的内量子发光效率;另一方面，由于阵列图案结构增加了光的散射，改变了发光二极管的光学线路，进而提升了外量子出光效率。在现有的图形化衬底中，为了得到较好的取光效果，希望获得底座及高度均较大的图案，而由于在图案的制备中蚀刻方向与衬底的晶体走向一致，图案的底座和高度通常是通过控制蚀刻时间等参...
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