一种可提高膜层纯度的等离子法沉积膜层的装置的制造方法技术资料下载

技术编号:10716523

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目前,通用的具有复杂曲面的玻璃工件外表面制备薄膜方式是物理真空蒸镀(PVD)。将Si02,ZnS和T12或Nb2O5等固体颗粒物通过电子枪加热气化,真空腔体内放置有玻璃工件,气态化的低折射率Si02、ZnS和高折射率Nb2O5或T12交替附着在玻璃表面,通过蒸发量控制膜层厚度并最终生成超过30层的薄膜。为了实现上述工艺,现有技术都是采用低压等离子化学气相沉积的方法,在复杂曲面的玻璃工件外表面制得纳米多层膜,对应工艺的装置包括有反应室01、抽气设备02、气体...
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