技术编号:10739408
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 脉冲激光沉积技术是一种利用激光对物体进行轰击,将轰击出来的物质沉淀在衬 底上而获得薄膜的一种方法。脉冲激光沉积技术的物理原理设及高能量脉冲福射冲击固体 祀时,激光与物质之间的相互作用,包括等离子羽辉的形成、已烙化的物质通过等离子羽辉 到达基片表面的转移、W及薄膜的生成过程。脉冲激光沉积通常可W分为四个阶段(1)激 光福射与物质的相互作用;(2)烙化物质;(3)烙化物质在基片的沉积;(4)薄膜在基片表面 的成核与生成。脉冲激光沉积技术具有如下优点(1)获得...
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