技术编号:10761723
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。目前,LED生产厂商尤其是LED外延片和芯片生产厂商针对LED皇晶新技术的研发兴趣骤增。在行业内,针对LED研发或产品性能优化提升阶段,以及新型衬底试验端,经常会遇到需要不同衬底混用共锅生长外延层的情况。在此过程中,需要准确分辨每一外延片在皇晶过程中的生长曲线(包括反射率曲线以及实际温度曲线)。但是现有的MOCVD机台,尤其是应用最广泛的Veeco机型,其硬件与配套的软件系统无法实现精确定位每一外延片在皇晶过程中的生长曲线。现有外延生长工艺中,参看附图1,...
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