技术编号：10783260
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在现有的技术中光轴沿径向移动至剖光设备中后，光轴需要沿周向转动进行表面的剖光，由于光轴的移动轨迹发生变化，使得托架与光轴表面的摩擦力增加，容易将表面划伤。发明内容本实用新型要解决的问题是提供一种适于光轴剖光使用的传送架，克服了现有技术中的不足。为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是适于光轴剖光使用的传送架，包括两个相对设置的支撑架板，两个所述支撑架板之间间隔设置多组托架单元，所述托架单元包括支撑辊，所述支撑辊的外壁上具有绕所述支撑辊周向一圈的环形支...
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