技术编号：10783290
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在现有的技术中光轴沿径向移动至剖光设备中后，光轴需要沿周向转动进行表面的剖光，由于光轴的移动轨迹发生变化，使得托架与光轴表面的摩擦力增加，容易将表面划伤。发明内容本实用新型要解决的问题是提供一种配合光轴剖光设备使用的托架，克服了现有技术中的不足。为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是配合光轴剖光设备使用的托架，包括底座和两个支撑板，所述支撑板的下端固定于所述底座上，上端朝向所述底座的上方延伸，所述支撑板的上部具有支撑辊，两个所述支撑辊的轴线相互平行...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。