技术编号:10791582
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在现有的技术中对应大型板材的真空镀膜时,及时镀膜仓中设置多个靶材蒸发点,依然不能使离子流在镀膜仓内均匀分布,镀膜的效果不佳。发明内容本实用新型要解决的问题是提供一种真空镀膜靶材离子流导向装置,克服了现有技术中的不足。为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是真空镀膜靶材离子流导向装置,包括加热底板和导向顶板,所述加热底板内具有加热电阻,所述加热底板的中心具有十字隔离板,所述十字隔离板的顶部具有盖板,所述加热底板上具有绕其轴线均布的多个分隔板,所述分隔板...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。