技术编号:10791596
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在现有的技术中真空镀膜机的真空内腔上往往设置一个抽气口,这样导致了真空内腔中的气流分别不均匀,在镀膜时镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子分散不均匀,极大的硬性了镀膜的均匀性。发明内容本实用新型要解决的问题是提供一种真空镀膜设备用抽真空装置,克服了现有技术中的不足。为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是真空镀膜设备用抽真空装置,包括真空镀膜仓,还包括两个U型接管和真空接管,所述真空镀膜仓的内壁对称分布四个抽气口,所述U型接管的两端分别与一个所述...
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