技术编号:10804928
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支,离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前,离子源的种类很多,Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置,该装置的基本工作原理为首先由阴极在离子源内腔产生等离子体,然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来,这种离子源产生的离子方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜中。原有考夫曼电源的缺点在于钨丝阴极易熔断,阴极电流波动大,不易控制。发明内容为解...
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