技术编号：10855813
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 很多用于制造集成电路、光罩及有极小结构的其他器件的化学制品是腐蚀性、有 毒且昂贵的。一个实例是用于光微影制程的光阻剂。在这样的应用中，必须极准确地控制分 配至基板上的液相(亦被称作工艺流体或"化学物质"）中的化学制品的速率和量，以确保均 匀地应用化学制品并避免浪费及不必要的消耗。此外，工艺流体的纯度常常是至关重要的。 即使是污染工艺流体的最小外来粒子也会给这样的制程期间所形成的极小结构带来瑕疵。 因此，必须由分配系统以避免污染的方式来处置工艺流体。参见（...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。