技术编号：10877608
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在微电子、微光学等微纳加工领域，平行光曝光机是实现高精度加工复制的重要装备。其工作原理是，通过平行光将掩膜上的图形等尺寸的转移到掩膜下面的菲林上，然后再通过腐蚀或者刻蚀等方式，将菲林上的图形转移到基片上，最后完成产品的制作。在上述工作过程中，图形转移的精度直接决定着最终产品的制造精度，而在图形转移过程中，是否能够将掩膜上的图形等尺寸的转移到掩膜下面的菲林上，取决于照明光线的平行度，当照明光线的平行度达到较高精度时，光线经过掩模后不会很快扩散，进而可以很好的...
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