技术编号:10969255
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。随着半导体晶圆加工以及集成电路的高集成化及高性能化,为了提高半导体晶圆加工、集成电路板制造,液晶显示屏生产等各种电子元件的品质及产品的成品率。对于生产环境所需要的洁净房的要求也越来越高。根据制造工程清洁房等规定严格实行清洁度管理就变得至关重要。而如何减少清洁度基准中尘埃、VOC等化学物质成分也成了很重要的问题。此外,日本平成15年施行的室内空气污染新法(建筑基准法、同法施行令及同法施行规则的一部分改正施行)规定了对于居室内化学物质发散在卫生上的措施,标示了...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。