技术编号:11018473
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。乙硅烷是一种很有前途的硅膜先体,是半导体工业中颇有吸引力的特种气体之一。可用作无定形硅薄膜、光化学纤维原料以及硅氧烷等的优良原料,在半导体、光电材料等领域有着广泛的应用前景和实际价值。与甲硅烷相比,它具有沉积速度快、温度要求低、膜均匀度高等优越性。但是,现有乙硅烷的制备方法主要因产率低、副产品多、相对复杂,不利于操作导致生产成本过高,这在很大程度上限制了其应用。目前,乙硅烷的合成方法主要有以下几种(一)、硅钙合金在150?250°C与氯气进行气固反应 ; ...
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