一种磁控溅射低温制备dlc薄膜的方法技术资料下载

技术编号:11023614

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DLC又被称作(类金刚石)薄膜作为一种多功能材料,它具有高硬度、低电阻、低摩 擦系数、良好的导热性、光透过性等性能,被誉为21世纪最具影响战略新型材料之一,在机 械、光学、电子、航天等多个领域有着广泛的应用。常见的制备DLC薄膜的方法有很多,传统 磁控瓣射是锻制DLC薄膜常用的方法。它的优点在于磁控瓣射法可W获得表面粗糖度低, 均匀性良好的DLC薄膜。但是传统的磁控瓣射法也有它的不足之处,磁场约束的高密度等 离子体区只能分布在祀面附近,而整个沉积室内的等...
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