技术编号:11031236
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种紧凑型容器清洗装置。背景技术随着半导体制程精度的提升,对化学品洁净度的要求也越来越高,对于盛放化学品的容器同样也要求极高的洁净度。使用大量纯水清洗容器是最常用的方法,但这种方法会导致少量水残留在容器内,引起目标产品浓度的偏差,对于溶剂型产品,由于对水份含量有严格要求,这种用纯水清洗的方法尤其不适用。另一种常见的容器清洗方法是使用目标产品冲洗,但这样会消耗大量的产品,带来制造成本的增加。而且,绝大部分的半导体化学品都具有毒性、易燃、易爆等特点,大量冲洗废液会产生安全、环境处理成本...
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