技术编号：11051230
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于光学领域，涉及一种高能激光系统大动态远场焦斑测量装置，具体涉及一种基于数字微镜的大动态激光远场焦斑测量系统。背景技术随着激光技术的成熟，目前光学领域涌现出了越来越多的大型、复杂、高能激光系统。高能激光系统的远场焦斑形态是评估激光系统光束质量的重要参数，尤其是用于激光打靶过程时，要求焦斑能量集中度越高越好，即尽量减少“旁瓣”的能量，因而要求激光远场焦斑具有一定的动态范围，如用于惯性约束聚变的激光焦斑的动态范围在1000:1以上。“主瓣”和“旁瓣”是由ICF打靶过程中对激光的过孔需求而...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。