技术编号：11064244
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种两腔室集定位与对中心功能于一体的双层支架结构，此结构主要应用于半导体薄膜沉积制备过程中，属于半导体薄膜设备的应用技术领域。背景技术在半导体设备中，负载腔室一般分为两个腔室，每个腔室只能一片一片的传递晶圆，这样大气与真空切换的时间长，设备的产能偏低。为实现多片的传输功能，同时节省抽气与回填时间，晶圆支架的结构是实现高产能及定位精准的关键因素之一，在机械手将晶圆传入或传出负载模块的过程中，由于机械手的传递过程具有一定误差，晶圆支架的安装位置不仅要达到一定的精度要求，而且要尽可能减小晶圆...
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