技术编号:11076450
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及研磨机或抛光机技术领域,具体涉及一种上盘万向调心加载机构。背景技术双面研磨抛光设备是通过上下两工面反向的绕中心作回转运动利用磨料介质进行对工件表面进行双面的磨削加工,压力控制方面,传统的均采用多段压力,压力段由用户自定义,但这样存在压力切换时产生冲击,从而产生工件受力的突变现象,另一方面,由于系统压力的不稳定,使加工工艺参数(压力、时间、速度以及研磨液粒度、浓度、流量)的加工效率有所改变。同时目前此类设备已趋向高效,高精密或超高精密方向发展,而设备上下工作面的贴合吻合度对加工产品品...
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