技术编号:11088157
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种布气装置及旋转阴极。背景技术旋转磁控溅射阴极是目前大面积真空镀膜的重要设备之一。旋转磁控溅射阴极的原理是一根表面附有溅射耙材或整根都是溅射耙材的中空管,绕悬挂在管中间静止不动的磁铁阵列旋转,控制工艺过程中的等离子体合理分布,由此耙穿过静止的等离子体区域,并且整个工艺过程中都有耙材溅射。一个理想的旋转磁控溅射阴极需要耙管旋转驱动系统,工艺过程中靶管内部需要冷却水冷却,溅射过程中对旋转的靶管输入电功率,冷却水和真空都需要旋转密封,耙材利用率(高达90%),这就意味着更长时间的溅射过...
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