技术编号：11105933
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及比表面积小且微孔容积大的多孔二氧化硅系粒子、其制造方法以及配合其的化妆料。背景技术作为制造多孔二氧化硅系粒子的方法，已知各种方法。例如，在专利文献1(日本特开昭61－174103号公报)中公开了通过使用喷雾干燥器对包含平均粒径为以下的一次粒子(二氧化硅系微粒)的胶体液进行喷雾干燥而制造平均粒径为1～20μm的多孔二氧化硅系粒子的方法。在专利文献2(日本特开2002－160907号公报)中公开了以下内容：通过对胶体液进行喷雾干燥，从而构成由平均粒径为2～250nm的无机二氧化硅微粒聚集而...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。