技术编号:11106305
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种耐蚀性部件、静电卡盘用部件及耐蚀性部件的制造方法,更详细而言,涉及一种对氟类腐蚀性气体、氯类腐蚀性气体等卤素类腐蚀性气体及这些气体的等离子体具有较高的耐蚀性的耐蚀性部件、包含耐蚀性部件的静电卡盘用部件及该耐蚀性部件的制造方法。背景技术在IC、LSI、VLSI等半导体装置的生产线上,存在使用氟类腐蚀性气体、氯类腐蚀性气体等卤素类腐蚀性气体及这些气体的等离子体的工序。这些工序中,对通过静电卡盘而被固定的半导体晶圆实施例如干式蚀刻、等离子体蚀刻、清洗等处理。在这些处理中使用CF4、SF6...
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