技术编号:11118288
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微电子芯片制备技术领域,尤其涉及一种用于半导体基片兆声波清洗装置。背景技术半导体芯片制造业一直在提高制造芯片的工艺技术。这工艺技术的提高的一个目标是降低在基片上制备芯片的时间,提高基片上产出芯片的良率,例如降低基片处理过程中产生的污染,减少工艺制备步骤,提高均匀性,从而降低制造成本。在处理过程中,基片的一面或双面都会接触到液相、气相流体,这些流体用于刻蚀、清洗、干燥和钝化基片的表面。对于成功的工艺过程,控制工艺流体在表面的应用是非常重要的。目前,多种方法与装备应用于这种流体工艺过程,然...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。