技术编号：11132752
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及加工为适于使用200nm以下的波长的曝光光进行图案转印的光掩模的光掩模坯和由该坯制备光掩模的方法。背景技术为了如微电子设备的较高速度的运转和低电力消耗这样的目标，而不断挑战大规模集成电路的更高集成度。为了满足对电路图案的微细化不断增长的要求，先进的半导体微加工技术变得重要。例如，电路构建配线图案的微细化的技术和用于单元构建层间连接的接触孔图案的微细化的技术变得必要。先进的微加工技术依赖于使用光掩模的光刻。如光刻系统和抗蚀剂材料那样，光掩模是小型化技术的一个重要的领域。为了得到具有上述的...
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