技术编号：11134286
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路技术领域，特别涉及一种集成芯片的制作方法。背景技术在对集成电路测试过程中，若发现集成芯片由于内部器件(包含金属—氧化物—半导体场效应晶体管即MOS管，电阻，电容或电感等器件)值的大小设计不合理而导致电路功能失效或性能未能满足产品详细规范，需要进行修正，具体修正方式包括：一、通过对内部电路进行重新仿真来确定修改该器件(MOS管，电阻，电容或电感等器件)的大小，以实现对电路功能或性能的提升。但这样必须对集成芯片的版图重新进行制版，通过再次流片，才能实现对产品的验证和供货。由于是通过...
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