技术编号:11140017
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明设计HDI板电镀加工领域,尤其涉及对HDI板上的通孔和盲孔进行电镀的方法。背景技术在HDI(高密度互联板)制造行业中,通盲共镀为制造环节的重要工序之一,因通孔的孔铜(>0.5mil)及盲孔填平的要求,加上受电镀的制程能力及药水的填孔特性,导致电镀后经常出现通孔孔铜不足或盲孔凹陷过大异常,严重影响到电镀品质及生产效率。虽然可以通过电镀参数、喷流、线速控制等方法得到一定的改善,但HDI面铜厚度受外层的制程能力及板件本身的线宽/线距、阻抗等的制约,如面铜厚度过大会导致蚀刻不净、阻抗不良居高不下,...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。