技术编号：11142517
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及压印设备和制造物品的方法。背景技术压印技术能够转印纳米尺度的精细图案，并且该压印技术作为用于半导体装置和磁性储存介质的大量生产的纳米光刻技术之一在日本专利公开No.2010-98310中被提出。使用压印技术的压印设备在其上已形成图案的模具(模子)和树脂彼此接触的状态下固化衬底上的树脂(压印材料)，并且从固化的树脂释放模具，由此在衬底上形成图案。压印设备一般采用通过使用诸如紫外光的光的照射来固化衬底上的树脂的光固化方法作为树脂固化方法。作为考虑紫外光照射的技术，日本专利公开No.2003...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。