技术编号：11142542
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及通过非活性气体或者洁净干燥空气等清洗气体对保存被保存物的保存容器的内部进行清洗处理的清洗装置、清洗系统、清洗方法以及清洗系统中的控制方法。背景技术已知有一种清洗装置，通过向保存半导体晶片或者玻璃基板等被保存物的保存容器的内部注入清洗气体来保持洁净度(进行所谓的清洗处理)。在这样的清洗装置中，例如存在想要通过希望的流量以及/或者注入模式向保存容器内注入清洗气体的需求。作为满足这种需求的技术，存在以下的清洗装置(专利文献1)：按照配置于上下左右的每个架来设置向保存容器供给清洗气体的供给机构...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。