技术编号：11152615
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学装调技术领域，具体涉及一种深紫外光学系统的共焦对准装置与方法。背景技术深紫外光学系统，如半导体微光刻用的投影光学系统、半导体工业中所使用的观察系统、微纳结构制造过程中所使用的紫外光学系统等等，通常具有极小的波像差，如投影光刻物镜的系统波像差在几个纳米量级。因此，在深紫外光学系统加工、集成及工作的各个环节都要进行波像差检测。在基于双通道夏克‐哈特曼法检测深紫外光学系统波像差中，深紫外光学系统与球面反射镜的共焦对准精度是影响波像差测量结果的一个关键因素，因此，深紫外光学系统与球面反射镜...
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