技术编号：11152913
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微纳制造技术领域，尤其涉及一种基于柔性的可在任意曲面制造微纳结构的方法。背景技术随着微纳米技术的发展，微纳米技术不但推动着科技的进步，而且造就了现代知识经济的物质基础。例如，微纳米加工技术促使集成电路按照摩尔定律发展。在曲面上制造微纳结构有很多重要的应用，尤其在航空航天设备的超轻量化、微光机电系统、光谱分析设备等方面都有潜在的应用。目前微纳制造工艺主要有光刻工艺，激光直写技术和纳米压印技术等。这些技术对于在曲面衬底上制造微纳结构来说存在很大的局限性。光刻工艺主要是使曝光部分或未曝光部分...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。