技术编号：11152934
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光阻涂布领域，具体涉及一种涂布机橡皮擦清洗单元、包括该涂布机橡皮擦清洗单元的涂布机以及一种清洗涂布机橡皮擦的方法。背景技术目前，集成电路制造领域需要广泛使用到光刻涂布机，光刻涂布机使用后在其喷嘴部位会粘附有异物(光阻)。为了避免粘附的异物对集成电路造成污染，需要对涂布机喷嘴部位进行清洗，以清除上一次涂布残留在涂布机喷嘴上的光阻。其中，该清洗过程中需要使用橡皮擦对光阻喷嘴的突出部位进行清洁，并在下一次涂布之前使用化学溶剂完成橡皮擦表面的清洁工作。由于光阻喷嘴上的残留光阻主要由橡皮擦清洁，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。